磁控溅射镀膜设备是由真空系统、磁控靶溅射系统、控制系统等部分组成，可实现2μm——300μm的厚度薄膜上溅射镀铜、铅、铝、锡、银等，可以在薄膜、布匹、海绵、铜箔、纸张等多种卷材表面准确镀膜。